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沒有鍍膜或鍍膜很薄:

      • 檢查氩氣傳輸管線和(hé / huò)壓力。
      • 确認靶材安裝正确且未耗盡。
      • 确保靶材的(de)電氣連接良好。
      • 檢查真空室的(de)真空度。

鍍膜不(bù)均勻:

      • 确保樣品旋轉和(hé / huò)/或傾斜功能正常。
      • 檢查靶材到(dào)樣品的(de)距離。
      • 确認樣品表面清潔無污染物。

樣品過熱:

      • 降低濺射功率(電流或電壓)。
      • 縮短濺射時(shí)間。
      • 确保磁控濺射頭中的(de)磁體功能正常(如果适用)。

鍍膜後圖像質量差(如仍存在(zài)充電現象):

      • 稍微增加鍍膜厚度。
      • 使用導電膠帶或膠水确保樣品與樣品台之(zhī)間的(de)良好電氣接觸。
      • 考慮使用導電性更高的(de)其他(tā)鍍膜材料。

靶材不(bù)濺射:

      • 檢查濺射頭的(de)高壓電源。
      • 确保真空度合适。
      • 清潔靶材表面。

污染問題:

    • 徹底清潔濺射室。
    • 使用高純度氩氣。
    • 檢查真空泵是(shì)否發生油反流。

排除離子(zǐ)濺射儀故障通常需要(yào / yāo)系統地(dì / de)檢查氣體接口、真空條件、電氣連接、靶材完整性和(hé / huò)樣品安裝等各個(gè)方面,以(yǐ)确定問題的(de)根本原因。

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