離子(zǐ)濺射儀
離子(zǐ)濺射儀，一(yī / yì ／yí)般是(shì)用來(lái)給SEM掃描電鏡中非導電樣品鍍膜，使得樣品擁有良好的(de)導電性能，避免産生荷電效應，從而(ér)能看到(dào)更好的(de)電鏡效果圖。我司提供的(de)鍍膜儀有噴金儀和(hé / huò)鍍碳儀，以(yǐ)及鍍金鍍碳一(yī / yì ／yí)體的(de)離子(zǐ)濺射儀。其中噴金儀用的(de)原理即是(shì)離子(zǐ)濺射，離子(zǐ)濺射的(de)噴金儀可用于(yú)大(dà)部分樣品，尤其是(shì)對熱敏感的(de)生物樣品，而(ér)鍍碳儀用的(de)則是(shì)熱蒸鍍，因爲(wéi / wèi)鍍膜過程會産生高溫，所以(yǐ)不(bù)适合熱敏感樣品鍍膜。
JY-S100離子(zǐ)濺射儀
JY-S100磁控離子(zǐ)濺射儀是(shì)一(yī / yì ／yí)款結構緊湊的(de)桌面小型鍍膜系統，特别适用于(yú)掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。
JY-S100 PLUS離子(zǐ)濺射儀
JY-S100PLUS 是(shì)一(yī / yì ／yí)款桌上(shàng)型冷态磁控濺射鍍膜系統，标配旋轉傾斜樣品台，特别适用于(yú)各種表面形貌的(de)非導電樣品在(zài)掃描電鏡成像中的(de)高質量鍍膜，也(yě)可滿足電極鍍膜，半導體等材料鍍膜的(de)要(yào / yāo)求。
Ted Pella 108 Auto離子(zǐ)濺射鍍膜儀
進口Ted Pella 108 Auto是(shì)一(yī / yì ／yí)款結構緊湊的(de)可放置于(yú)桌面的(de)小型全自動鍍膜設備，特别适用于(yú)掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。
Ted Pella 108 manua離子(zǐ)濺射儀
進口Ted Pella 108 manual是(shì)一(yī / yì ／yí)款結構緊湊的(de)半自動桌上(shàng)型鍍膜系統，特别适用于(yú)掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜，可使用多種金屬靶材：Au， Au/Pd,，Pt,，Pt/Pd（Au靶爲(wéi / wèi)标配）。
Ted Pella 108C鍍碳儀
進口Ted Pella 108C是(shì)用于(yú)掃描電鏡能譜分析的(de)小型桌面型鍍碳儀。108C中使用的(de)高純碳棒可以(yǐ)在(zài)高倍條件下得到(dào)高質量的(de)鍍膜效果。
Ted Pella 108 Auto SE噴金儀
Ted Pella 108 Auto SE是(shì)一(yī / yì ／yí)款帶有大(dà)樣品室的(de)離子(zǐ)濺射噴金儀，樣品室尺寸爲(wéi / wèi)：直徑150mm x 165mm 高，特别适用于(yú)掃描電鏡成像中非導電樣品高質量鍍膜。
Ted Pella 208C高真空鍍碳儀
Ted Pella 208C高真空鍍碳儀爲(wéi / wèi)SEM、TEM、STEM、EDS/WDS、EBSD和(hé / huò)微探針分析提供高質量的(de)鍍膜技術。系統結構緊湊，所占空間小。樣品室直徑150mm，可快速抽真空進行鍍膜處理，處理周期約10分鍾。
Ted Pella 208HRD高真空離子(zǐ)濺射儀
Ted Pella 208HRD高分辨離子(zǐ)濺射儀爲(wéi / wèi)場發射掃描電鏡應用中遇到(dào)的(de)各種樣品噴鍍難題提供真正的(de)解決方案。高分辨膜厚控制儀分辨率小于(yú)0.1nm，其作用是(shì)對所鍍薄膜的(de)厚度進行精确控制。
JYSC-110離子(zǐ)濺射儀
JYSC-110型離子(zǐ)濺射儀主要(yào / yāo)用于(yú)掃描電子(zǐ)顯微鏡樣品鍍覆導電膜（金膜），儀器操作簡單方便，是(shì)配合SEM 制樣的(de)儀器。設備配有微量充氣閥調節工作真空，在(zài) 20Pa 真空保護。同時(shí)，配有專用進氣口和(hé / huò)微量充氣調節裝置，以(yǐ)方便空氣或氩氣等工作氣體充入。
JYSC-1000離子(zǐ)濺射儀
JYSC-1000型小型磁控離子(zǐ)濺射儀主要(yào / yāo)用于(yú)SEM制樣樣品鍍導電膜（如金膜）或材料鍍膜，儀器性能穩定，操作簡單方便。采用磁控冷态濺射，基本不(bù)升溫，保護樣品。
JYE100C噴碳儀
JYE100C型小型噴碳儀主要(yào / yāo)用于(yú)掃描電鏡 EDS 樣品鍍導電膜 ，儀器操作簡單方便，是(shì)配合 SEM 制樣的(de)儀器。
離子(zǐ)濺射儀配套靶材
離子(zǐ)濺射儀鍍膜的(de)效果會受到(dào)目标樣品相互作用的(de)影響，所以(yǐ)應該根據實際樣品來(lái)選擇合适的(de)靶材。大(dà)多數濺射材料都具有較高的(de)二次電子(zǐ)（SE）産生率，而(ér)有較低原子(zǐ)序數的(de)濺射材料更适合于(yú)樣品的(de)背散射電子(zǐ)（BSE）成像。目前用的(de)比較多的(de)是(shì)金靶和(hé / huò)鉑靶。金靶濺射後顆粒較大(dà)，所以(yǐ)高倍成像更适合用鉑靶在(zài)高真空下鍍膜。
鍍碳儀配套碳棒
光譜純的(de)碳棒，雜質等于(yú)或小于(yú)2ppm。可應用于(yú)TEM，FESEM，FIB，WDS，EBSD，Microprobe和(hé / huò)SEM / EDS。
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離子(zǐ)濺射儀的(de)常見問題和(hé / huò)故障排除
沒有鍍膜或鍍膜很薄： 檢查氩氣傳輸管線和(hé / huò)壓力。 确認靶材安裝正确且未耗盡。 确保靶材的(de)電氣連接良好。 檢查真空室的(de)真空度。 鍍膜不(bù)均勻： 确保樣品旋轉和(hé / huò)/或傾斜功能正常。 檢查靶材到(dào)樣品的(de)距離。 确認樣品表面清潔無污染物。 樣品過熱： 降低濺射功率（電流或電壓）。 縮短濺射時(shí)間。 确保磁控濺射頭中的(de)磁體功能正常（如果适用）。 鍍膜後圖像質量差（如仍存在(zài)充電現象）： 稍微增加鍍膜厚度。 使用導電膠帶或膠水确保樣品與樣品台之(zhī)間的(de)良好電氣接觸。 考慮使用導電性更高的(de)其他(tā)鍍膜材料。 靶材不(bù)濺射： 檢查濺射頭的(de)高壓電源。 确保真空度合适。...
離子(zǐ)濺射儀鍍膜後樣品還有僞影的(de)避免方法
離子(zǐ)濺射儀鍍膜過的(de)樣品爲(wéi / wèi)什麽會有一(yī / yì ／yí)些出(chū)現一(yī / yì ／yí)些僞影，影響最終的(de)SEM圖像質量呢。一(yī / yì ／yí)般來(lái)說(shuō)有以(yǐ)下幾點。 充電僞影： 鍍膜厚度不(bù)足或鍍膜不(bù)連續會導緻電荷在(zài)SEM成像過程中積累，産生圖像變形、亮點和(hé / huò)掃描光栅偏移。避免方法： 确保足夠的(de)鍍膜厚度和(hé / huò)連續性。使用導電的(de)樣品固定介質（如導電膠帶、銀膠）有效地(dì / de)将樣品接地(dì / de)。 顆粒感/粗糙度： 鍍膜材料本身的(de)晶粒結構在(zài)高放大(dà)倍數下可能會變得可見，從而(ér)掩蓋樣品的(de)精細特征。避免方法： 對于(yú)高分辨率應用，選擇晶粒尺寸更小的(de)鍍膜材料（如鉑、銥）。 過熱/電子(zǐ)束損傷：...
透射電鏡樣品制備技術指南：材料科學篇
作者：孫千 本文轉載自公衆号：老千和(hé / huò)他(tā)的(de)朋友們。原文地(dì / de)址：https://mp.weixin.qq.com/s/oLe7r8QTg6ZK8FZ09zhk_g 使用透射電鏡（TEM）的(de)第一(yī / yì ／yí)步是(shì)樣品制備，這(zhè)步驟是(shì)确保獲得有價值TEM結果的(de)重中之(zhī)重。制備的(de)TEM樣品一(yī / yì ／yí)般需滿足以(yǐ)下幾個(gè)基本要(yào / yāo)求： 1. 保持樣品的(de)原始結構：盡量減少人(rén)工痕迹，即使引入也(yě)必須可識别；2. 盡可能薄：樣品厚度至少需小于(yú)100納米，确保電子(zǐ)束能夠穿透；3. 具備物理支撐：以(yǐ)利于(yú)樣品架的(de)裝載和(hé / huò)取出(chū)；4. 具備機械穩定性：避免因震動導緻圖像缺陷；5....
掃描電鏡制樣低溫磁控濺射鍍金膜的(de)細晶粒特性研究
1. 引言 在(zài)掃描電子(zǐ)顯微鏡（SEM）分析中，爲(wéi / wèi)了(le／liǎo)獲得高質量的(de)圖像，對非導電樣品進行導電鍍膜處理至關重要(yào / yāo)。這(zhè)一(yī / yì ／yí)步驟能夠有效地(dì / de)防止樣品表面電荷積聚，從而(ér)避免圖像失真和(hé / huò)僞影的(de)産生。同時(shí)，導電鍍膜還能減少電子(zǐ)束對樣品的(de)損傷，并提高二次電子(zǐ)的(de)發射效率，最終提升圖像的(de)對比度和(hé / huò)分辨率 1。金（Au）因其優異的(de)導電性、良好的(de)化學穩定性以(yǐ)及相對較高的(de)二次電子(zǐ)産率，常被選作SEM樣品制備的(de)鍍膜材料 1。...
