離子(zǐ)濺射儀鍍膜過的(de)樣品爲(wéi / wèi)什麽會有一(yī / yì ／yí)些出(chū)現一(yī / yì ／yí)些僞影，影響最終的(de)SEM圖像質量呢。一(yī / yì ／yí)般來(lái)說(shuō)有以(yǐ)下幾點。
充電僞影：
鍍膜厚度不(bù)足或鍍膜不(bù)連續會導緻電荷在(zài)SEM成像過程中積累，産生圖像變形、亮點和(hé / huò)掃描光栅偏移。避免方法： 确保足夠的(de)鍍膜厚度和(hé / huò)連續性。使用導電的(de)樣品固定介質（如導電膠帶、銀膠）有效地(dì / de)将樣品接地(dì / de)。
顆粒感/粗糙度：
鍍膜材料本身的(de)晶粒結構在(zài)高放大(dà)倍數下可能會變得可見，從而(ér)掩蓋樣品的(de)精細特征。避免方法： 對于(yú)高分辨率應用，選擇晶粒尺寸更小的(de)鍍膜材料（如鉑、銥）。
過熱/電子(zǐ)束損傷：
過高的(de)濺射功率或過長的(de)濺射時(shí)間會導緻樣品過熱，可能對熱敏感的(de)生物樣品造成損傷。避免方法： 使用磁控濺射儀以(yǐ)減少熱量産生。嘗試短時(shí)多次濺射方法，縮短濺射時(shí)間，并盡可能監測樣品溫度。
污染：
濺射氣體中的(de)雜質或真空室的(de)污染會導緻鍍膜污染。避免方法： 使用高純度的(de)氩氣。定期清潔濺射儀真空室。在(zài)濺射前用氩氣沖洗真空室。
鍍膜不(bù)連續/陰影效應：
樣品表面不(bù)規則和(hé / huò)樣品表面太過粗糙可能由于(yú)陰影效應導緻鍍膜不(bù)均勻。避免方法： 使用旋轉傾斜樣品台（廣州競赢的(de)離子(zǐ)濺射儀都可配旋轉傾斜樣品台）。
鍍膜前樣品制備引起的(de)僞影：
生物樣品固定、脫水或幹燥不(bù)當會導緻結構塌陷或其他(tā)僞影，這(zhè)些僞影可能會因鍍膜而(ér)加劇或被掩蓋。避免方法： 遵循标準的(de)樣品固定、脫水（如使用梯度乙醇系列）和(hé / huò)幹燥（如臨界點幹燥或六甲基二矽氮烷處理）流程。離子(zǐ)濺射鍍膜是(shì)許多SEM樣品制備流程的(de)最後一(yī / yì ／yí)步，其成功很大(dà)程度上(shàng)取決于(yú)前面步驟的(de)質量。固定、脫水或幹燥過程中的(de)任何錯誤或不(bù)足都可能導緻僞影，即使鍍膜本身是(shì)最佳的(de)。
