高真空離子(zǐ)濺射儀Ted Pella 208HRD鍍膜儀

描述

Ted Pella 208HRD高分辨離子(zǐ)濺射儀爲(wéi / wèi)場發射掃描電鏡應用中遇到(dào)的(de)各種樣品噴鍍難題提供真正的(de)解決方案。

場發射掃描電鏡觀察時(shí)，樣品需鍍上(shàng)極其薄、無細晶且均勻的(de)膜層以(yǐ)消除電荷積累，并提高低密度材料的(de)對比度。爲(wéi / wèi)了(le／liǎo)将細晶的(de)尺寸減小到(dào)最小程度，208HRD提供了(le／liǎo)一(yī / yì ／yí)系列的(de)鍍膜材料，并對膜厚和(hé / huò)濺射條件提供無可媲美的(de)控制。

208HRD分子(zǐ)渦輪泵高真空系統提供寬範圍的(de)操作壓力，可以(yǐ)對膜層的(de)均勻性和(hé / huò)一(yī / yì ／yí)緻性進行精确控制，并最大(dà)程度減小充電效應。高/低樣品室的(de)結構設計使靶材和(hé / huò)樣品之(zhī)間的(de)距離調節變得極爲(wéi / wèi)方便。

MTM-20高分辨膜厚控制儀分辨率小于(yú)0.1nm，其作用是(shì)對所鍍薄膜的(de)厚度進行精确控制，它尤其适合場發射電鏡對膜厚（0.5－3nm）的(de)要(yào / yāo)求。

場發射掃描電鏡鍍膜推薦的(de)靶材是(shì)：

• Pt/Pd：非導電樣品鍍膜的(de)通用鍍膜材料
• Cr：優良的(de)半導體樣品的(de)鍍膜材料
• Ir：優良的(de)真正無細晶的(de)鍍膜材料

208HR系統爲(wéi / wèi)得到(dào)最佳高分辨鍍膜效果提供了(le／liǎo)多種配置選擇，可配備标準的(de)旋片泵或提供幹淨真空的(de)無油渦旋式真空泵，标配的(de)208HR包含Cr 和(hé / huò) Pt/Pd靶。

一(yī / yì ／yí)、主要(yào / yāo)特性

·         可選擇多種鍍膜材料

·         精确的(de)膜厚控制

·         樣品台控制靈活：可對樣品台進行獨立的(de)旋轉、行星式轉動、傾斜控制，保證形貌差異大(dà)的(de)樣品也(yě)能得到(dào)最佳的(de)鍍膜效果。

·         多個(gè)樣品座：提供4個(gè)樣品座，每個(gè)樣品座直徑32mm，可裝載多達6個(gè)小樣品座。

·         樣品室幾何可變： 樣品室幾何用于(yú)調節鍍膜的(de)速率（1.0nm/s ～ 0.002nm/s）

·         寬範圍的(de)操作壓力：獨立的(de)功率和(hé / huò)壓力調節，氩氣的(de)壓力大(dà)小範圍爲(wéi / wèi)0.2 – 0.005 mbar。

·         緊湊、現代的(de)桌上(shàng)型設計

·         操作容易

二、技術參數

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