描述
二氧化矽支持膜是(shì)在(zài)200um厚的(de)矽片上(shàng)生長40、18或8nm厚二氧化矽膜，3mm氮化矽片上(shàng)0.5 x 0.5mm窗口上(shàng)的(de)二氧化矽膜，膜厚分爲(wéi / wèi)40nm，18nm和(hé / huò)8nm，孔徑大(dà)小/數量：40 nm時(shí)50 x 50µm / 24孔，18nm時(shí)60 x 60µm / 24孔，8nm時(shí)70 x 70µm / 24孔。表面粗糙度：RMS（Rq）爲(wéi / wèi)0.65nm，平均粗糙度（Ra）爲(wéi / wèi)0.41 nm。應用領域：納米材料的(de)沉積和(hé / huò)生長。薄膜分析和(hé / huò)表征。催化劑的(de)研發。支持FIB薄片。半導體材料的(de)表征。研究附着的(de)生物分子(zǐ)。貨号21530-10到(dào)21532-10.
| 産品貨号 | 載網目數 | 材質 | 規格 |
| 21532-10 | 二氧化矽支持膜，Ø3mm框架，0.5×0.5mm窗口,24個(gè)70 x 70µm孔，膜厚8nm | 矽 | 10/包 |
| 21531-10 | 二氧化矽支持膜，Ø3mm框架，0.5×0.5mm窗口,24個(gè)60 x 50µm孔，膜厚18nm | 矽 | 10/包 |
| 21530-10 | 二氧化矽支持膜，Ø3mm框架,0.5×0.5mm窗口,24個(gè)50 x 50µm孔，膜厚40nm | 矽 | 10/包 |
